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Uncharted Territory

自分が読んで興味深く感じた英文記事を中心に取り上げる予定です

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半導体の最先端は一社に掛かっている

 


CNBCは結構解説動画をあげてくれているのですが、今回は半導体露光装置のメーカーについてです。最先端の露光装置は世界で1社しか作れないとか。それがオランダのASMLです。そして、それを購入して役立てることができるメーカーは主にTSMC、サムスン、インテルの3社だけとのこと。

Stephen Shankland (CNET News) 翻訳校正: 編集部 2022-01-21 11:32

Intelは米国時間1月19日、2025年までに半導体製造のリーダーとしての地位を取り戻す取り組みの一環として、オランダのASMLが手がける次世代型半導体製造機器を他社に先駆けて発注したと発表した。Intelが今回発注した「Twinscan EXE:5200」という機器は2024年に納品され、2025年に運用が開始される予定だ。




半導体の小型化における中心課題は、シリコンウエハー上に今まで以上に細かく回路を刻み込むというものだ。ASMLは、このプロセスにおける主要な部分を取り扱う「フォトリソグラフィー」と呼ばれる機器を製造している。フォトリソグラフィーという言葉は、「フォト」(光)による「リソグラフィー」(石に刻むこと)に由来している。サムスンとTSMCの両社は、このプロセスで使用する光の波長をより短い極端紫外線(EUV)へと移行済みであるため、多くの工程を経てプロセッサー上に形成するトランジスターやワイヤリングのパターンをより微細なかたちで刻み込めるようになっている。

 IntelはEUVリソグラフィーの導入に出遅れたものの、エンジニアらを再び率いることになった最高経営責任者(CEO)のPat Gelsinger氏はこの取り組みを加速させようと力を注いでいる。同氏は、さらに微細なパターンを刻み込むための高NA(開口数)を有する、より先進的なEUVツールを他社に先駆けて導入すると述べていた。ASMLは18日に初の注文を受けたと発表し、19日にIntelがその発注者であることを明らかにした。

門外漢だと日本のメーカーは?と思いたくなりますが、ちょうどそのあたりを取り上げてくれた動画もありました。



週刊エコノミスト Online 2022年2月1日

微細化の要である露光技術では、最先端のEUV(極端紫外線)露光装置こそオランダのASMLの独壇場だが、露光のためのマスクではHOYA、マスク検査装置はレーザーテック、感光材(フォトレジスト)ではJSRや東京応化工業など、塗布装置は東京エレクトロンと、露光の周辺技術では日本メーカーが業界をリードしている。その他に洗浄装置や薬液など日本メーカーが強い分野は多い。日本の製造装置・材料メーカーは現在の強みをさらに伸ばしていくべきだろう。

最先端技術であるため、アメリカは中国の手に渡るのを恐れているため圧力をかけているという記事もありました。

米国はオランダ政府とASML社に圧力 バイデン政権はトランプ前大統領の政策を継続
By Stu Woo in London and Yang Jie in Tokyo 2021 年 7 月 19 日 11:29 JST 更新

ハイテク業界で最も重要な装置の一つは、オランダのトウモロコシ畑の隣で作られている。米政府はそれが絶対に中国に行き着くことがないよう、努力を怠っていない。

 中国政府は、オランダの半導体製造装置大手ASMLホールディングの主力製品である極端紫外線(EUV)リソグラフィー・システムと呼ばれる露光装置について、中国企業による購入を認めるようオランダ政府に圧力をかけている。同システムは先進的な半導体の製造に不可欠な装置だ。

 この重さ180トンにも及ぶ唯一無二の装置は、米インテルや韓国サムスン電子のほか、アップルの主要サプライヤーである台湾積体電路製造(TSMC)などの企業に使われている。最先端のスマートフォン、第5世代(5G)向けの通信機器から人工知能(AI)用のコンピューターに至るまでのあらゆるものに使われるチップを製造するためだ。

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